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產品中心
產品型號：HORIBA
更新時間：2025-04-07
廠商性質：代理商
訪問量：310
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| 品牌 | HORIBA/堀場 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產品種類 | 差壓式 | 介質分類 | 氣體 |
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環(huán)保,食品/農產品,化工,電子/電池,制藥/生物制藥 |
| 控制范圍 | 10 SCCM 至 200 SLM | 支持氣體 | 多種標準及特殊氣體 |
| 控制精度 | ±1.0% | 響應時間 | ≤1秒 |
| 通信接口 | 模擬、RS485、DeviceNet、PROFIBUS |
HORIBA SEC-E 系列數字質量流量控制器（Mass Flow Controller，簡稱 MFC），適用于各種工業(yè)與科研應用。該系列產品通過熱式傳感器檢測氣體流量，并搭配高響應電磁閥進行精準控制，支持多種氣體類型與廣泛的流量范圍，性能穩(wěn)定，控制精度高。
高精度熱式傳感器
內置熱傳感器可實現實時流量測量，確保流量控制的高精度與重復性。
電磁閥控制
快速響應的電磁閥結構，具備良好的流量調節(jié)能力，適合動態(tài)工況。
多氣體兼容性
支持多種標準及特種氣體，如 N?、O?、Ar、He、H?、CO? 等。
寬流量控制范圍
控制范圍從 10 SCCM 至 200 SLM，涵蓋從實驗室級別到工業(yè)規(guī)模的多種需求。
數字/模擬信號兼容
提供模擬 (0–5V, 4–20mA) 和數字通訊（RS485, DeviceNet, PROFIBUS）接口，便于系統(tǒng)集成。
緊湊設計，易于安裝
模塊化結構，體積小，適合集成到各類設備或系統(tǒng)中。
| 參數 | 數值 |
| 可控氣體種類 | 多種標準及特殊氣體 |
| 流量控制范圍 | 10 SCCM ～ 200 SLM（以 N? 為基準） |
| 控制精度 | ±1.0% F.S.（標準型） |
| 重復精度 | ±0.2% F.S. |
| 響應時間 | ≤1 秒 |
| 通訊方式 | 模擬 0–5V、RS485、DeviceNet、EtherCAT、PROFIBUS |
| 供電電壓 | ±15VDC 或 +24VDC |
| 接頭類型 | 1/4" Swagelok, VCR, 面密封等多種可選 |
| 操作溫度范圍 | 5 ～ 50°C |
半導體制造
薄膜沉積（CVD, PVD）
離子注入
等離子蝕刻
光刻工藝輔助
工業(yè)控制
氣體混合系統(tǒng)
燃燒器氣體配比
工業(yè)氣體監(jiān)控
科研實驗
氣體傳感器實驗
微反應器進氣控制
生物技術及制藥行業(yè)實驗
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